熔融石英(Fused Silica)由超99.9%纯度的二氧化硅经高温熔融形成,其非晶态结构赋予各向同性、超低光散射及卓越稳定性。光学性能覆盖深紫外(190nm)至中红外(2500nm),紫外透光率超85%,低折射率(1.458@589nm)与高阿贝数(67.8)使其成为深紫外光刻镜头、高能激光器的核心材料,并用于量子探测器。热膨胀系数仅0.55×10⁻⁶/℃,耐受-200℃至1000℃极端温变,应用于航天器舷窗及光刻机镜组。莫氏硬度达7级,抛光后表面粗糙度亚纳米级(Ra<0.5nm),耐强酸与等离子体侵蚀,支撑半导体刻蚀工艺。在光学领域,常用于制造紫外激光透镜、光学窗口、光栅及高能激光系统的光学元件。
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